Джере́ла пла́зми — пристрої, призначені для створення плазми. Створення плазми вимагає щонайменше часткової йонізації нейтральних атомів та/або молекул середовища. У техніці, як правило, для створення плазми використовують ті чи інші види газового розряду.
Плазмотрон високого тиску
Джерела плазми високого (від 1000 Па до атмосферного і, рідко, вище) тиску називають плазмотронами або плазмовими пальниками. У них, як правило, плазма утворюється в спеціальній розрядній камері, крізь яку продувається плазмотвірний газ. Найчастіше використовують дуговий або індукційний розряд. Для невеликих потужностей (до декількох кВт) поширені також НВЧ плазмотрони.
Високочастотне джерело плазми за низького тиску (менше 1 Па)
Джерела плазми для низьких тисків не мають загальної назви і класифікуються за принципом дії:
Popov O.A. High Density Plasma Sources: Design, Physics and Performance. — Mill Road, Park Ridge, New Jersey, USA : Noyes Publications, 1995.
Габович М. Д. Плазменные источники ионов. — К. : Наукова думка, 1964. — 224 с.
Жуков М.Ф. Электродуговые нагреватели газа (плазмотроны). — М. : Наука, 1973. — 232 с.
Барченко В.Т. Технологические вакуумно-дуговые источники плазмы. — СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2013. — 242 с. — ISBN 978-5-7629-1366-9.
Аксенов И. И. Вакуумная дуга: источники плазмы, осаждение покрытий, поверхностное модифицирование. — К. : Наукова думка, 2012. — 727 с.
Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. — М. : Высш. шк, 1988. — 255 с. — ISBN 5-06-001480-0.
Виноградов М.И., Маишев Ю.П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии. — М. : Машиностроение, 1989. — 56 с. — ISBN 5-217-00726-5.
