Schon zu Schulzeiten hat Anders sich für Physik, Astronomie, Elektrotechnik sowie für Musik und Geschichte interessiert. Als Schüler der 7. Klasse baute er einen Refraktor (Linsen-Teleskop). 1980 begann er an der Universität Wrocław Physik zu studieren. Das endete abrupt im Sommer 1981 als der Ausnahmezustand 1981 in Polen ausgerufen wurde. Er setzte sein Studium an der Humboldt-Universität Berlin fort. Mit einer Arbeit zu dielektrisch-behinderten Entladungen wurde ihm der Titel „Diplomphysiker“ 1984 verliehen. Als Doktorand der Humboldt-Universität absolvierte er ein Auslandsstudium (1984–1986) auf dem Gebiet der Plasmaphysik an der Lomonossow-Universität (Moskauer Staatliche Universität) in Moskau, Sowjetunion (heute Russland). In seiner Doktorarbeit untersuchte er gepulste Plasmaströme in Luft und bekam 1987 den Titel „Dr. rer. nat.“ an der Humboldt-Universität Berlin verliehen.
Wissenschaftlicher Werdegang
Plasmaphysiker in Ost-Berlin, Deutsche Demokratische Republik (1987–1991)
Seine ersten beruflichen Arbeiten hat er 1987 am Zentralinstitut für Elektronenphysik der Akademie der Wissenschaften ausgeführt. Nach wenigen Monaten wurde er als LKW-Fahrer zum Wehrdienst in die Nationale Volksarmee einberufen. Die Freizeit in seiner Militärzeit nutzte er, um sein Buch „Formulary for Plasma Physics“ zusammenstellen, das 1990 im Akademie-Verlag veröffentlicht wurde.[1] Nach der Wiederaufnahme seiner Arbeit an der Akademie, beschäftigte er sich mit der Verlängerung der Lebenszeit von Elektroden in Natrium-Hochdruck-Lampen[2] und entwickelte eine laser-basierte, bildgebende Messtechnik zur Analyse von kathodischen Brennflecken, wobei er eine Auflösung von wenigen Nanosekunden erreichte.[3]
Plasmaanwendungen in Berkeley, Kalifornien (1992–2017)
Als Wissenschaftlicher Mitarbeiter und seit 2001 Gruppenleiter arbeitete er in verschiedenen Themen in der Arbeitsfeldern Ionenstrahlen und Plasma und deren Anwendungen einschließlich der Plasma-Immersions-Ionenimplantation und -deposition[4] und der Plasmadiagnostik von Vakuumbögen.[5] Sein Buch über Kathodische Bögen[6] und sein verallgemeinertes Struktur-Zonen-Diagramm[7] sind viel zitierte Werke. Seine Arbeiten zu ultra-dünnen diamandartigen Schichten lieferten einen wichtigen Beitrag zur Entwicklung von Festplatten, die eine Speicherdichte von 1 GB/in2 erreichten; diese Arbeiten wurden 2009 durch einen R&D100 Award anerkannt. Über zehn Jahre entwickelte und untersuchte er das Hochleitungs-Impulssputtern (HiPIMS), insbesondere die Rolle der Ionensationszonen („Spokes“)[8] des Selbstsputterns[9] und des Gas-Recyclings am Target.[10]
Professor für Angewandte Physik und Direktor des Leibniz - IOM, Leipzig (seit 2017)
Für die Jahre 2014–2024 war Anders der „Editor-in-Chief“ des angesehenen Journal of Applied Physics, das vom Verlag AIP Publishing seit 1931 herausgegeben wird. Zuvor war er „Associate Editor“ desselben Journals (2009–2014) und in den Editorial Boards von Applied Physics Letters und Surface and Coatings Technology aktiv.
Auszeichnungen und Preise
1994: Paul A. Chatterton Young Investigator Award[11]
1997: R&D 100 Award für die Entwicklung der „Eingeschnürten Plasmaquelle“[12]
A. Anders, Ed. Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition. New York: Wiley, 2000. ISBN 978-0-471-24698-5 (Print).
A. Anders, Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation. New York: Springer, 2008. ISBN 978-0-387-79107-4 (Print) and 978-0-387-79108-1 (Online).
Persönliches
1997 heiratete er Christine Kurata, die in der Softwareindustrie arbeitet. Sie haben zwei Kinder. Er hat einen weiteren Sohn aus erster Ehe.
↑A. Anders, B. Jüttner: Cathode mode transition in high-pressure discharge lamps at start-up. In: Lighting Research & Technology. Band22, Nr.2, Juni 1990, ISSN0024-3426, S.111–115, doi:10.1177/096032719002200206 (sagepub.com [abgerufen am 22. März 2024]).
↑André Anders: Ion charge state distributions of vacuum arc plasmas: The origin of species. In: Physical Review E. Band55, Nr.1, 1. Januar 1997, S.969–981, doi:10.1103/PhysRevE.55.969 (aps.org [abgerufen am 22. März 2024]).
↑André Anders: A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching. In: Thin Solid Films. Band518, Nr.15, Mai 2010, ISSN0040-6090, S.4087–4090 (sciencedirect.com [abgerufen am 22. März 2024]).
↑Joakim Andersson, André Anders: Self-Sputtering Far above the Runaway Threshold: An Extraordinary Metal-Ion Generator. In: Physical Review Letters. Band102, Nr.4, 27. Januar 2009, S.045003, doi:10.1103/PhysRevLett.102.045003 (aps.org [abgerufen am 22. März 2024]).
↑A Anders, J Čapek, M Hála, L Martinu: The ‘recycling trap’: a generalized explanation of discharge runaway in high-power impulse magnetron sputtering. In: Journal of Physics D: Applied Physics. Band45, Nr.1, 12. Dezember 2011, ISSN0022-3727 (iop.org [abgerufen am 22. März 2024]).
