En tecnologia, la litografia suau és una família de tècniques per fabricar o replicarestructures utilitzant "segells elastomèrics, motlles i fotomàscares conformables". S'anomena "suau" perquè utilitza materials elastomèrics, sobretot PDMS.[1][2]
La litografia suau s'utilitza generalment per construir característiques mesurades a escala de micròmetre a nanòmetre. Segons Rogers i Nuzzo (2005), el desenvolupament de la litografia suau es va expandir ràpidament entre 1995 i 2005. Les eines de litografia suau ara estan disponibles comercialment.[3]
Adequat per a aplicacions que impliquen superfícies grans o no planes (no planes).
Més mètodes de transferència de patrons que les tècniques tradicionals de litografia (més opcions de "tinta").
No necessita una superfície fotoreactiva per crear una nanoestructura.
Detalls més petits que la fotolitografia en entorns de laboratori (~30 nm vs ~100 nm). La resolució depèn de la màscara utilitzada i pot arribar a 6 nm.[4]